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   日期:2023-11-30     浏览:9    评论:0    
核心提示:研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素
 研究直流磁控反应溅射ITO膜过程中ITO靶材的毒化现象,用XRD、EPMA、LECO测氧仪等手段对毒化发生的机理进行分析,并对若干诱导因素进行讨论,研究表明ITO靶材毒化是由于In2O3。主相分解为In2O造成的,靶材性能及溅射工艺缺陷都可能诱导毒化发生.ITO薄膜作为一种重要的透明导电氧化物半导体材料,因具有良好的导电性能及光透射率广泛应用于液晶显示、太阳能电池、静电屏蔽、电致发光等技术中,用氧化铟+氧化锡烧结体作为靶材,直流磁控反应溅射法制备ITO薄膜与用铟锡合金靶相比,具有沉积速度快,膜质优良,工艺易控等优点成为目前的主流?但是,甘肃显示行业陶瓷靶材推荐厂家,此法成膜过程中会经常发生ITO靶材表面黑色化,甘肃显示行业陶瓷靶材推荐厂家,生成黑色不规则球状节瘤,本文称此现象为靶材毒化,毒化使溅射速率下降,膜质劣化,迫使停机清理靶材表面后才能继续正常溅射,严重影响了镀膜效率。


陶瓷靶材的种类很多,应用范围广,甘肃显示行业陶瓷靶材推荐厂家,主要用于微电子领域,显示器用,存储等领域.甘肃显示行业陶瓷靶材推荐厂家

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陶瓷靶材是一种重要的溅射靶材,广泛应用于各个领域的薄膜制备和表面处理。作为一种高纯度、高密度的材料,陶瓷靶材具有许多独特的特点和优势。首先,陶瓷靶材具有优异的化学稳定性和热稳定性,能够在高温和复杂的化学环境下保持稳定的性能。这使得陶瓷靶材在各种薄膜制备过程中能够提供稳定的材料源,确保薄膜的质量和性能。其次,陶瓷靶材具有良好的机械性能和热导性能。这使得陶瓷靶材在溅射过程中能够承受高能量的离子轰击和高温的热冲击,不易发生破裂和变形。同时,陶瓷靶材的高热导性能能够有效地散热,保持靶材表面的稳定温度,提高溅射过程的效率和稳定性。此外,陶瓷靶材具有优异的光学性能和电学性能。不同种类的陶瓷靶材具有不同的光学和电学特性,可以根据具体需求选择合适的靶材。例如,氧化物靶材可以用于制备透明导电膜、光学薄膜和光学器件,而金属靶材可以用于制备导电膜和磁性薄膜。陶瓷靶材具有丰富的种类和规格,能够满足不同行业和应用的需求。无论是光学薄膜、电子器件还是太阳能电池,陶瓷靶材都能提供高质量的材料源,帮助客户实现产品的优化和创新。我们公司致力于提供高质量的陶瓷靶材产品,满足客户的需求,推动行业的发展和进步。甘肃陶瓷靶材市场价陶瓷靶材和金属靶材各自优缺点。

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磁控溅射的工作原理简单说就是利用磁场与电场交互作用,氩离子轰击靶材表面,同时也把动能传导进去,随后靶材表面的原子就被轰击出来,从不同角度飞向基片,在其表面凝集沉积形成一层薄膜。“这层薄膜非常薄,往往都在纳米量级,是人类肉眼看不见的,而一支10毫米厚的靶材所镀的薄膜面积可达几万甚至十几万平方米,镀膜后产生的价值远超过靶材本身的价值,靶材起的作用非常关键,所以我常将靶材称为小而美、小而精的材料。”“别小看这些薄膜材料,它们是很多功能器件得以大显神威的主要材料。”

ITO靶材生产过程包括金属提纯和靶材制造两个主要环节。因高纯金属原料的品质影响靶材的导电性能等性状,对成膜的质量有较大影响,且靶材种类繁多,客户需求非标,定制属性明显。故而金属提纯环节技术壁垒及附加值均较高。其中铟属于稀散金属,因其具有可塑性、延展性、光渗透性和导电性等特点,而以化合物、合金的形式被广泛应用。目前,铟的主要应用领域是平板显示领域,包括ITO靶材及新兴的铟镓锌氧化物(IGZO)靶材,占全球铟消费量的80%;其次是半导体领域、焊料和合金领域、太阳能发电领域等。生产ITO靶材对于铟的纯度要求一般在4N5及以上,生产化合物半导体材料对于铟的纯度要求则更高,一般在6N及以上。靶材主要由靶坯、背板等部分组成。

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