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内层干膜包括内层贴膜、曝光显影、内层蚀刻等多道工序。内层贴膜就是在铜板表面贴上一层特殊的感光膜，就是我们所说的干膜。这种膜遇光会固化，在板子上形成一道保护膜。曝光显影是将贴好膜的板进行曝光，透光的部分被固化，没透光的部分还是干膜。然后经过显影，褪掉没固化的干膜，将贴有固化保护膜的板进行蚀刻。因此，存在这样的问题，难以实现使得感光构件上的调色剂量稳定的初衷。再经过退膜处理，这时内层的线路图形就被转移到板子上了。
曝光显影
1、蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；曝光显影1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
2、曝光就是光圈、快门和感光度ISO的组合。
其中光圈和速度联合决定进光量，ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。
3、显影包括正显影和反转显影。
正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。
曝光显影
1、蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。
2、曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。
3、显影：通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。
不锈钢蚀刻预处理，主要是对不锈钢原材料进行清洁，保证蚀刻前不锈钢上没有灰尘，油污，水渍，锈迹以及瑕疵等问题，以免影响后期曝光显影的准确性，蚀刻后影响产品品质，所以不锈钢预处理是非常重要的。
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曝光显影
曝光一般是在紫外光照射下，光引发剂吸收光能分解成游离基，游离基再引发不聚合单体进行聚合交联反应，反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构。曝光一般在自动面曝光机内进行，现在的曝光机根据光源的冷却方式不同分为风冷和水冷两种。曝光成像质量除干膜光致抗蚀剂的性能外，光源的选择，曝光的时间（曝光量）的控制，照相底板的质量等都是影响曝光成像质量的重要因素。曝光法：工程根据图形开出备料尺寸→材料准备→材料清洗→烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK2。
