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派瑞林薄膜具有的材料属性，被FDA认可为第VI类高分子材料，它具有更优良的生物相容性、低渗透性、化学惰性和非常低的毒性。组织培养表明：人类细胞更容易在派瑞林表面生长。

派瑞林作为涂层通过的制备涂覆于表面，该涂层超薄敷形性好、耐腐蚀、与人体组织及血液良好相容，它不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，还可有效的防止外界的化学品、水分和体液的侵蚀。

派瑞林（PARYLENE）真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上

光学镀膜技术常用的方法是真空溅射镀膜玻璃基片，一般用来控制基片对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损耗，提高成像质量，涂覆一层或多层透明介质膜，称为减反射膜或减反射膜。

表面科学是在固体物理等许多科学基础上发展起来的新科学，其研究对象是各种各样的表面。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。特别是20世纪70年代在真空镀膜基础上发展起来的分子束外延技术，用他不值可以特备可控制的超薄薄膜、原子级平整度的表面、上百层的叠加膜，而且还可以控制薄膜的成分和亚比。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供了充分的条件。

真空搜膜技术在其他科学领域中的应用亦很广泛。例如，电子显微镜的标本必须经过真空镀膜处理才能观察﹔激光器需要镀上精密控制的光学膜层才能使用;太阳能利用也与真空镀膜技术息息相关。

首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层C在微通道上，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，在其上制作金电极，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（Parylene）涂层微通道。通过控制（Parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得很好的派瑞林涂层微通道，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。