点击图片查看原图Parylene HT，该材料具有更低的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
CVD（Chemical Vapor Deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °C高温热解，得到对二环二体(dimer)，随后，经提纯的二聚体在 120°C 的升华区内升华，在惰性气体的推动下，二聚体进入温度为 660°C 的裂解区，高温下二聚体的分子键断裂，生成活性的对二活性单体(monomer)，后在惰性气体气的推动下，活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里，在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。
常用永磁体有钕铁硼磁体。即磁体是通过粉末冶金工艺烧结成型的产品，因其中的富钕相、钕铁硼主体及边界很容易形成晶间腐蚀，并且稀土元素钕性质活泼，因而使得整个钕铁硼材料的耐蚀性极差，在潮湿环境下极易氧化生锈腐蚀。
目前，常见的钕铁硼磁体的防腐方法主要有电镀、磷化、电泳等。但这些常规电镀方法普遍存在各种各样的问题，例如工艺稳定性不好，适用范围较窄，防腐能力不足，设备投资大，运行成本高等问题。
建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量，这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射，普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外，但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。随着经济的发展，普通玻璃已越来越不能满足人们的要求。而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。
生活中我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些就是经过派瑞林镀膜技术加工后的涂层工具。金黄色的是在刀具上涂镀了TiN、ZrN 涂层。TiN是代应用广泛的硬质层材料。黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂层。钴铜色的是在刀具上镀涂了TiALN涂层。
真空镀膜是一种由物理方法造成塑料薄膜原材料的技术性，在真空泵房间内原材料的分子从加温源混凝土离析出去打进被镀物件的表层上。该项技术性用以生产制造光学激光镜片，如远洋航行望远镜镜片等；后拓宽到别的作用塑料薄膜，游戏设备镀铝膜、装饰设计镀膜和原材料表层改性材料等，纳米镀膜生产商，如腕表机壳镀仿金黄，机械设备数控刀片镀膜，更改生产加工红强制。真空镀膜有三种方式，即挥发镀膜、磁控溅射镀膜和等离子喷涂。真空镀膜的作用是各个方面的，这也决策了其运用场所比较丰富。整体而言，真空镀膜的关键作用包含授予被镀件表层高宽比金属质感和镜面玻璃实际效果，在塑料薄膜原材料上使膜层具备优异的隔绝特性，出示出色的磁屏蔽材料和导电性实际效果。
真空镀膜技术性被称作发展前景的关键技术性之一， 镀膜企业并已在高新技术产业发展的发展趋势中展示出的行业前景。
